- plasma etch
- плазменное травление
English-Russian dictionary of microelectronics. 2014.
plasma etch
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plasma etch mask — plazminio ėsdinimo kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etch mask vok. Plasmaätzmaske, f rus. маска для плазменного травления, f pranc. masque pour décapage à plasma, m … Radioelektronikos terminų žodynas
plasma etch cleaning — plazminis ėsdinamasis valymas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etch cleaning vok. Plasmaätzreinigung, f rus. очистка плазменным травлением, f pranc. nettoyage par décapage à plasma, m … Radioelektronikos terminų žodynas
radio-frequency plasma etch — aukštadažnis plazminis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. radio frequency plasma etch vok. Hochfrequenzplasmaätzen, n rus. высокочастотное плазменное травление, n pranc. décapage par plasma haute fréquence, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Plasma etching — is a form of plasma processing used to fabricate integrated circuits. It involves a high speed stream of glow discharge (plasma) of an appropriate gas mixture being shot (in pulses) at a sample. The plasma source, known as etch species, can be… … Wikipedia
Plasma etcher — A plasma etcher, or etching tool, is a tool used in the production of semiconductor devices. Plasma etcher produces a plasma from a process gas, typically oxygen or a fluorine bearing gas, using a high frequency electric field, typically 13.56… … Wikipedia
Plasma-Ätzen — Plasmaätzen ist ein materialabtragendes, plasmaunterstütztes, gaschemisches Trockenätz Verfahren, das besonders in der Halbleitertechnik, Mikrostrukturtechnologie und in der Displaytechnik großtechnisch eingesetzt wird. Der Begriff Plasmaätzen… … Deutsch Wikipedia
décapage par plasma haute fréquence — aukštadažnis plazminis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. radio frequency plasma etch vok. Hochfrequenzplasmaätzen, n rus. высокочастотное плазменное травление, n pranc. décapage par plasma haute fréquence, m … Radioelektronikos terminų žodynas
masque pour décapage à plasma — plazminio ėsdinimo kaukė statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etch mask vok. Plasmaätzmaske, f rus. маска для плазменного травления, f pranc. masque pour décapage à plasma, m … Radioelektronikos terminų žodynas
nettoyage par décapage à plasma — plazminis ėsdinamasis valymas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. plasma etch cleaning vok. Plasmaätzreinigung, f rus. очистка плазменным травлением, f pranc. nettoyage par décapage à plasma, m … Radioelektronikos terminų žodynas
Advanced Silicon Etch — (ASE) is a deep reactive ion etching (DRIE) technique to rapidly etch deep and high aspect ratio structures in silicon.ASE was pioneered by Surface Technology Systems Plc. (STS) in 1994 in the UK. STS has continued to develop this process with… … Wikipedia
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
